[1]杨 琛,李木军.残余层对紫外光滚动压印脱模质量影响的有限元分析[J].机械与电子,2019,(08):8-11.
　.The Finite Element Analysis on the Effect of Residual Layer on the UV Roll-to-roll[J].Machinery & Electronics,2019,(08):8-11.

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残余层对紫外光滚动压印脱模质量影响的有限元分析()

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机械与电子[ISSN:1001-2257/CN:52-1052/TH]

卷:

期数:

2019年08期

页码:

8-11

栏目:

设计与研究

出版日期:

2019-08-24

文章信息/Info

Title:

The Finite Element Analysis on the Effect of  Residual Layer on the UV Roll-to-roll

文章编号:

１００１- ２２５７（２０１９）０８- ０００８- ０４

作者:

杨 琛; 李木军

中国科学技术大学精密机械与精密仪器系，安徽 合肥 ２３００２６

Author(s):

ＹＡＮＧＣｈｅｎ; ＬＩＭｕｊｕｎ

ＤｅｐａｒｔｍｅｎｔｏｆＰｒｅｃｉｓｉｏｎＭａｃｈｉｎｅｒｙａｎｄＩｎｓｔｒｕｍｅｎｔａｔｉｏｎ，ＵｎｉｖｅｒｓｉｔｙｏｆＳｃｉｅｎｃｅａｎｄＴｅｃｈｎｏｌｏｇｙｏｆＣｈｉｎａ，Ｈｅｆｅｉ２３００２６，Ｃｈｉｎａ

关键词:

紫外光滚动压印; 脱模; 残余层; 数值仿真

Keywords:

ＵＶｒｏｌｌ ｔｏ ｒｏｌｌｉｍｐｒｉｎｔｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ; ｄｅｍｏｌｄｉｎｇ; ｒｅｓｉｄｕａｌｌａｙｅｒ; ｎｕｍｅｒｉｃａｌｓｉｍｕｌａｔｉｏｎ

分类号:

ＴＨ１６４

文献标志码:

A

摘要:

通过利用 ＡＢＡＱＵＳ软件，对不同厚度的残余层对紫外光滚动压印脱模过程的影响进行了研究。通过理论计算，残余层可以减少脱模过程中结构的应力集中和最大应力。随着残余层厚度的增加，残余层对于脱模的改善作用有所不同，仿真结果得出了一个最佳的残余层厚度来提高滚动压印的脱模过程。引入残余层来提高滚动压印脱模质量提供了一个紫外光滚动压印技术的新思路。

Abstract:

ＴｈｅｅｆｆｅｃｔｏｆｔｈｅｒｅｓｉｄｕａｌｌａｙｅｒｗｉｔｈｄｉｆｆｅｒｅｎｔｔｈｉｃｋｎｅｓｓｏｎｔｈｅｄｅｍｏｌｄｉｎｇｐｒｏｃｅｓｓｏｆＵＶｒｏｌｌ ｔｏ ｒｏｌｌｉｍｐｒｉｎｔｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙｗｅｒｅｓｔｕｄｉｅｄｕｓｉｎｇＡＢＡＱＵＳｓｏｆｔｗａｒｅ．Ｔｈｒｏｕｇｈｓｉｍｕｌａｔｉｏｎ，ｔｈｅｓｔｒｅｓｓｃｏｎｃｅｎｔｒａｔｉｏｎａｎｄｔｈｅｍａｘｉｍｕｍｓｔｒｅｓｓｉｎｔｈｅｄｅｍｏｌｄｉｎｇｐｒｏｃｅｓｓｉｓｒｅｄｕｃｅｄｂｙｔｈｅｒｅｓｉｄｕａｌｌａｙｅｒ．Ｔｈｅｅｆｆｅｃｔｏｆ ｔｈｅｒｅｓｉｄｕａｌｌａｙｅｒｏｎｄｅｍｏｌｄｉｎｇｖａｒｉｅｓａｓｔｈｉｃｋｎｅｓｓｉｎｃｒｅａｓｅｓ．Ｔｈｅｓｉｍｕｌａｔｉｏｎｒｅｓｕｌｔｓｓｉｇｎｉｆｙｔｈａｔｔｈｅｒｅｓｉｄｕａｌｌａｙｅｒｗｉｔｈｔｈｅｍｏｓｔｏｐｔｉｍａｌｔｈｉｃｋｎｅｓｓｃａｎｂｅｓｅｌｅｃｔｅｄｔｏｉｍｐｒｏｖｅｔｈｅｄｅｍｏｌｄｉｎｇｐｒｏｃｅｓｓ．Ｉｎｃｏｎｃｌｕｓｉｏｎ， ｔｈｅｒｅｓｉｄｕａｌｌ

备注/Memo

备注/Memo:

收稿日期：２０１９- ０５- ０５

基金项目：国家自然科学基金（５１４７５４４２）

作者简介：杨 琛 （１９９３－），男，内蒙古鄂尔多斯人，硕士研究生，研究方向为微细加工技术；李木军 （１９７６－），男，广东茂名人，副教授，研究方向为微纳结构设计、应用及其非常规加工技术。

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